【邀請函】第二屆國際先進光刻技術研討會（IWAPS 2018）

來自專欄觀芯志

【邀請函】第二屆國際先進光刻技術研討會（IWAPS 2018）

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會議時間

2018年10月18-19日

會議地點

廈門市 海滄區

會議簡介

近年來，中國集成電路產業蓬勃發展，基於這樣的形勢，國際先進光刻技術研討會（International Workshop on Advanced Patterning Solutions，IWAPS）應運而生。IWAPS為來自國內外半導體工業界、學術界的資深技術專家和優秀研究人員等提供了一個技術交流平台，參會者可以就材料、設備、工藝、測量、計算光刻和設計優化等主題分享各自的研究成果，探討圖形化解決方案，研討即將面臨的技術挑戰。

作為國內唯一的高端光刻技術研討會，其發言者均為特邀自光刻及其相關領域的國內外資深專家，代表了其所在領域的國際先進水平。報告內容涉及廣泛，涵蓋了當前的技術現狀、未來的發展趨勢以及面臨的挑戰等。該研討會旨在為與會者提供一個深入討論的互動平台，也為想要了解更多國內外半導體業界動態的研究者和工程師提供更多機會。

主辦單位

國家集成電路產業

技術創新戰略聯盟

承辦單位

中國科學院微電子研究所

廈門半導體投資集團有限公司

組委會

曹健林

組委會主席

集成電路產業技術創新戰略聯盟主席

科技部原副部長 研究員

葉甜春

組委會副主席

中科院微電子研究所所長 研究員

中國科學院EDA中心常務副理事長

黎家輝（Kafai Lai）

組委會副主席

OSA與SPIE協會會士

IBM T.J.Watson研究員

梁守登（Ted Liang）

組委會副主席

英特爾公司首席工程師

韋亞一

組委會秘書長

中科院微電子所研究員「千人計劃」專家

計算光刻研發中心主任 集成電路計算光刻與設計優化開放實驗室主任

演講嘉賓（部分）

Mark Phillips

Ph.D.

Intel Fellow

Intel公司光刻技術的掌舵人

Heike Riel

Ph.D.

IBM Fellow

IBM公司前沿研究所執行董事

物聯網技術及其解決方案主管

Yu Cao (曹宇)

Ph.D.

ASML公司副總裁

ASML Brion公司總經理

Yuri Granik

Ph.D.

Mentor公司首席科學家

Satya Kurada

Ph.D.

KLA-TENCOR公司副總裁

Anthony (Tony) Yen

Ph.D.

ASML公司副總裁

全球技術開發中心首席執行官

Toru KIMURA

JSR公司研究主管

Christopher J. Progler

Ph.D.

Photronics公司副總裁兼首席技術官

SPIE董事會成員

Will Conley

Ph.D.

就職於Cymer公司

SPIE聯合主席

論文徵集

摘要截止時間：2018年6月30日

摘要接收通知時間：2018年7月15日

稿件接收截止時間：2018年9月30日

投稿郵箱(Email): jomm_iwaps@ime.ac.cn

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【論文徵集】第二屆國際先進光刻技術研討會（IWAPS 2018）

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