現今有哪些先進的測試或者表徵生物、化學等材料的技術?可否分享一下?
本人物理化學學生一枚,想學習一些先進的技術,哪怕介紹或者原理也可以,謝謝
電化學專業。不得不提最近比較流行的原位表徵技術。
in situ(原位)是指「在反應過程中」。主要指的是在科學中實時的測試分析,將待測的目標置於原來的體系中進行檢測,而不是單獨的將某一目標分離出來使用單變數方式進行測定,或模擬條件體系進行檢測。大部分的電化學測試手段都有原位的性質。而光譜原位電化學測試包括紫外-可見光譜,表面增強和共振拉曼光譜,紅外光譜,甚至是掃描電化學顯微鏡(SECM)。
由於本人的專業是電化學,方向是層狀氧化物材料,我這裡拋磚引玉一下,畢竟這些技術現在在別的領域還有一些限制,但是不久後肯定能突破這些。
1. 原位XRD技術原位X射線粉末衍射技術,有著一定的歷史了,正本清源的話能寫成一本書了,這裡簡單介紹一下:a.原位的高溫測試——將粉末樣品放入XRD衍射儀中,然後固定升溫台和設置升溫程序,接收器會定時採集信號,你就可以獲得材料在不同溫度下的XRD譜圖,並進行你想要的分析,如下圖:2.原位TEM測試(可以測試液相體系?)
原位透射電鏡觀察技術,這個近幾年逐漸火熱的技術不斷地被越來越多人使用,主要是用高分辨相機在短時間內快速的採集樣品的照片,但是機採的速度比人要快的多。現在大多使用在單晶生長,複合材料的相變上。這是一篇發在Science上的鉑單晶生長的過程,首次被記錄了下來:下面這個是用原位TEM技術檢查電化學裝置中的Si負極材料在鋰離子脫嵌過程的變化:裝置如下:他們使用了金探針同步輻射,同步輻射,同步輻射
材料專業研一現在常見的一些材料表徵方法:X射線衍射 拉曼光譜 掃描電鏡 透射電鏡 電子能譜等等比較先進的有原子力顯微鏡AFM和三維原子探針3DAP(畢竟見識有限)
這兒主要介紹下3DAP
三維原子探針技術是由FIM場離子顯微鏡到AP原子探針再到3DAP一步步演化而來。FIM場離子顯微鏡結構示意圖:FIM由一個真空容器組成,被研究材料的樣品製成針尖形狀,其尖端曲率半徑約為50nm,被固定在距離熒光屏大約50mm的位置。樣品被冷卻至深低溫,以減小原子的熱振動,使原子的圖像穩定可辨,並接3~30kV正高壓作為陽極。儀器工作時,首先將容器抽到10-8Pa的真空度,然後通入氦氣、氖氣或氬氣等成像氣體至10-3Pa。在加上足夠高的電壓時,樣品尖端附近的氣體原子發生極化和電離,氣體離子在電場作用下射向熒光屏產生亮斑,在熒光屏上即可顯示尖端表層原子的清晰圖像,如下圖所示,其中每一亮點都是單個原子的像。為了使圖像得到增強,在熒光屏前面放置一塊微通道板,當氣體離子射入微通道板後,產生一束增強的二次電子,二次電子轟擊到熒光屏上產生一個增強的亮斑。 鉑-銠合金單晶的場離子顯微鏡圖像原子探針原理:
在場離子顯微鏡中,如果場強超過某一臨界值,將發生場致蒸發,即樣品尖端處的原子以正離子形式被蒸發,並在電場的作用下射向熒光屏。Ee叫做臨界場致蒸發場強,某些金屬的蒸發場強Ee如表:金屬 難熔金屬 過渡族金屬 Sn Al
Ee(MV/cm) 400~500 300~400 220 160
由於表面上突出的原子具有較高的位能,總是比那些不處於台階邊緣的原子更容易發生蒸發,它們也正是最有利於引起場致電離的原子。所以,當一個處於台階邊緣的原子被蒸發後,與它挨著的一個或幾個原子將突出於表面,並隨後逐個地被蒸發;據此,場致蒸發可以用來對樣品進行剝層分析,顯示原子排列的三維結構。
原子探針結構示意圖:
在低於Ee的成像條件下獲得樣品表面的場離子圖像,通過調節樣品的位向,使欲分析的某一原子像點對準熒光屏的小孔,它可以是偏析的溶質原子或細小的沉澱物相等等。當樣品被加上一個高於蒸發場強的脈衝高壓時,該原子的離子可能被蒸發而穿過小孔,配上飛行時間質譜儀,離子到達飛行管道的終端而被高靈敏度的離子檢測器所檢測。若離子的價數為n,質量為m,飛行速度為v,則其動能為:
neU=1/2mv2
其中U為脈衝高壓。可見,離子的飛行速度取決於離子的質量,如果測得其飛行時t,而樣品到檢測器的距離為s,則我們可以計算出離子的質荷比
m/n = 2eUt
2
/s
2
由此可以達到逐個檢測原子並進行化學成分分析的目的。但它只能獲得不同原子在一個方向(深度方向)的位置信息。
原子探針具有極佳的深度方向解析度,為0.2nm。進行原子探針分析時,原子逐個從試樣表面蒸發出來。通常探測孔的直徑為2~3mm,而場離子顯微鏡圖像的放大倍率一般為106,對應於樣品尖端表面上直徑為2~3nm的範圍,蒸發樣品尖端表面上一個原子面可收集到穿過探測孔的50~100個原子。把這些原子作為一個數據組,即可得到原子面上各組元的面濃度。逐層蒸發試樣,可得到沿深度方向的成分分布,其位置精確度為一個晶面間距。如探測小柱體穿過界面時,可獲得界面附近的元素分布。
三維原子探針3DAP原理:
三維原子探針是在原子探針的基礎上發展的:在原子探針樣品尖端疊加脈衝電壓使原子電離並蒸發,用飛行時間質譜儀測定離子的質量/電荷比來確定該離子的種類,用位置敏感探頭確定原子的位置。它可以對不同元素的原子逐個進行分析,並給出納米空間中不同元素原子的三維分布圖形,解析度接近原子尺度,是目前最微觀、且分析精度較高的一種定量分析手段。因此三維原子探針可以直接觀察到溶質原子偏聚在位錯附近形成的Cottrell 氣團,可以分析界面處原子的偏聚,研究沉澱相的析出過程、非晶晶化時原子擴散和晶體成核的過程,分析各種合金元素在納米晶材料不同相及界面上的分布等。目前它的應用範圍還局限於導電物質,如果能實現採用激光激發產生離子,則可用於非導電物質。由於它不能獲得晶體結構方面的信息,所以有時還需要配合使用高分辨透射電鏡進行分析。
3DAP結構示意圖:
3DAP測試數據:
Al-Sc-Zr合金
顯微NMR......
我們都知道 NMR 在成像與譜學中的應用......但如果我們有對微小樣本使用的 NMR 技術,那估計在顯微成像、材料表徵上都有相當的應用前景。
一種基於鑽石中的 Nitrogen-Vacancy Center (NV Center)的 NMR 探測技術或許為這種概念提供了可能性。NV Center 是在鑽石中的 C 被 N 取代產生的晶體缺陷,我們可以通過研究單個 N 的自旋態來探測超微尺度上的磁場變化......
另一種相當開掛的 NMR 技術是全細胞 NMR...... 簡直是解譜的新高度。(doi:10.1038/nature07814)首先在原有的各種技術上能加個原位,也就是in-situ都是不得了的技術,很多儀器需要在高真空下進行測試,而所謂原位包括在常規的氣氛里變溫的情況下進行表徵。比如前一個回答裡面的原位xrd。還有in-situ的x射線光電子能譜,原位的透射電子顯微鏡,原位測試確實對物質的生長過程,一些反應機理的研究提供了很大的幫助。原位裡面比較普及的就是原位的紅外了,不過可能不太符合題主說的那麼厲害,不過很是實用。 還有就是XAS,似乎是用於研究物質表面的配位狀態,國內貌似就三台,不過國外已經能做原位的XAS了。 關於顯微技術,其實除了原位tem,帶上球差矯正,超高分辨的透射顯微鏡也是很厲害的,近乎可以看到原子級別的像。還有之前的可以看到分子結構的原子力顯微鏡,中國還有教授利用相關的技術看到了氫鍵的存在。 最後是核磁共振和拉曼技術,都在物化的研究中佔用一定的地位,現在也不斷有與其有關新的應用被開發出來。 手機回答比較簡陋,而且有很多其實自己也不太懂,吹吹牛而已,如果之後有空,一定把答案好好整理一下,再加深了解以後填坑。
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