ASML的光刻機到底對中國禁售不禁售？

01-13

很多人說台積電三星海力士領先中芯國際主要是因為ASML最先進的光刻機對大陸禁售。如果這樣的話，沒有先進光刻機，國家集成電路基金給中芯國際紫光投的大筆資金豈不是白白打水漂？為什麼不把這些錢砸給光刻機呢，只要有了光刻機，不需要政府額外支持就能做好了

自答一個，我也是聽說的，題主聽聽就好，具體不保證，如果有錯誤，歡迎大家指正。

Asml是荷蘭飛利浦旗下的公司，是世界半導體設備的龍頭。

中國在這方面的有：中科院微電子研究所，華虹微電子，上海微電子，還有個北方華創，這是我知道的國內研發半導體設備的公司，光刻機，刻蝕機都搞。

同時，飛利浦又是台積電的股東，而且據說是最大的一個，聽說佔了台積電一半以上股份，還有別的一些歐美公司也佔了不少，總體來說，台積電80％是外資。

這樣一說你就明白了吧？Asml有最新設備優先供給自己的小弟，是理所當然的。晶圓代工是超高利潤的行業，（台積電營收比華為都高很多）。

至於對中國，如果大陸的代工廠崛起了，自然會侵蝕台積電（Asml，飛利浦）的利潤，所以對大陸進行封鎖是符合自己利益的。

而大陸在不斷突圍，雖然現在還是很落後，聽說已經能搞出了28nm光刻機（具體沒考證，僅聽說），好像是中科院微電子研究所有了突破。每當大陸突破一代工藝，Asml自己就會開放一代了，因為這是商業競爭，開放給你，有助於打壓本土設備商，讓他們賺不到錢，迫使他們停止研發。至於新次代工藝的設備，自然還是封鎖的。目前看來，28納米的設備，應該放開禁售了，因為中芯國際已經量產了28納米的晶元（高通的）。

最新消息是（不確定真假），前幾天傳出來說國內的華中科技大學，利用新型原理，已經研發出了7nm工藝的光刻機，這消息不敢說是真的，但也不敢說是假的，因為同樣就在前幾天，中芯國際發出官方新聞，已經和Asml達成合作，說要在晶元領域共同進步，由此看來，國內7nm光刻機的事兒，確實值得推敲。

至於紫光，主要是搞儲存晶元的（快閃記憶體，內存），對工藝要求沒有處理器那麼高，目前國內設備應該可以滿足（個人猜測）。

哦，對了，紫光也有處理器（展訊，銳迪科），國家隊嘛，財大氣粗的，具體啥情況不好說。不過前幾天央視的財經頻道講到中國芯，其中就有紫光，片子中高管是台灣人，已經搞出了128Gb的儲存晶元，能否量產沒說，還有待觀察。

目前國內的研發情況，中芯國際在上海北京又蓋了兩座廠，說是會著力於28納米以下工藝（14nm，7nm）的研發，具體如何，暫時不好說，配合前面說的，和asml達成合作的新聞看，還是有想像空間的。

同時中芯國際和高通，還有華為，比利時微電子研究所達成了合作，說要研究14nm，這個是習大大牽頭的，比較有看頭。紫光這邊，自己的展訊處理器，已經推出了14nm產品，是英特爾代工的，因為英特爾買入了展訊的股份，是股東之一，不排除紫光的儲存晶元也會讓英特爾代工。此外還有格羅方德（amd的代工廠）也在成都設廠了，紫光的儲存廠就有在成都和綿陽的。

綜合來說，隨著台積電，聯電，格羅方德，中芯國際，華力微電子，英特爾（傳聞要進入代工領域）等晶圓製造廠入駐大陸，紫光的投入不會白費的，中芯國際壓力會大很多，群雄逐鹿，競爭空前激烈。

韓廠會受到影響（三星，海力士），主要就是儲存方面的，三星最近發財報，又賺了大錢，主要就是靠儲存（海力士也是），不出意外的話，如果紫光的儲存廠（三座？）投產的話，儲存晶元應該會降價，這是棒子最後的瘋狂（最近儲存漲價，限售，害了華為，侵蝕了國產手機的利潤）。

期待這一天到來。

至於國產光刻機的研發問題。光刻機是迄今為止人類所能製造的最精密的設備，涉及電子，機械，光學，等等很多領域，被稱為是工業的明珠。asml的光刻機也是很多企業合作的結果，聽說光源是美國的，鏡頭是德國的，還有英國的技術，荷蘭的技術，是西方百年工業的結晶，集大成者。中國想要趕上，絕不是一朝一夕的事情。需要各類基礎領域紮實的人才，這也是最難的。

最後，世上無難事，只怕有心人，相信我們的國家會好的。

不禁，訂貨周期21個月，有5萬個零部件，關鍵是買回來其他配套技術要一起達標才能做出10nm 7nm的工藝，國內半導體人一直在默默努力，補各塊短板。

17年10月1號digitime的新聞asml中國經理金泳璇說euv不限制中國。

所以要對原答案增加一些：

首先金的說法是一個非常積極的信號。

但是金根本不具備這樣說的隨便賣中國資格。或者他只是代表asml賣乖說可以賣，並不能解讀為不禁運。說不禁運至少是荷蘭商務部長級別才配吧。否則中車某海外分公司老總就可以賣高鐵了，東航美辦老總就可以買飛機了，也沒總理什麼事了。另外上短期內中國企業是否需要買euv也是個問題，那麼又多了一個便宜漂亮話隨便說的理由咯？

談禁運，就會說wassenaar arrangement。WA並非完全禁止。而且WA的效力就是根雞毛，能拿雞毛當令箭憑的也不是一根雞毛的合法性。但有時候雞毛在實現某些政治目的的時候還是很有用的。為了政治目的，可以不用雞毛，也可以濫用雞毛。如果今天賣你一台，你就感恩戴德說不禁運了？

回過頭，除了WA，就沒有其他禁運借口了？有人論證WA並非完全禁止清單內容（要不要舉一個賣清單內光刻機給非締約國以色列的例子？呵呵），就認為不禁運了？武器出口其他限制性條款就沒了？所以後文中吳先生使用的措辭「尊重相關國際法規」是很專業的。

繼續說WA，根據現行目錄波長193nm（正好是ArF）已經在裡面了。難道一定要193以下才有軍事敏感性？其實完全是壓制某些國家發展經濟的流氓協定。西方國家用武器用途作為技術禁運借口還少嗎？

有的朋友圖樣了，借用某知乎大v的話，知乎談論地緣政治的門檻是小學文化。

另外上次沒有回答完整題主的問題。，正好補充技術和設備同等重要。而且半導體本身也是個生意，新製程是為了做好生意，發展經濟，不是為了新製程而新製程。28nm HKMG還是很有意義的嘛。

沒有自助設備西方也還是會賣給我們，就是吃肉喝湯的問題，目前有口清湯喝。我們發展自主設備，是要保證一直有湯喝，而且要清湯變濃湯，甚至吃上肉。

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反對（我的朋友說）不禁運，更反對冒充asml員工說不禁運。

顯然是禁運的。

作為去中芯國際開過股東大會，和cfo兼董秘高永崗先生談笑風生的我，來說兩句。當時在場有一位投資大佬提到asml euv的問題。投資者關係部吳經理（曾是江上舟董事長助理）的回答是目前製程用不到euv，另外會尊重相關國際法規。

請考慮：

1.什麼是相關國際法規

2.如果（誇張一點）研發進展神速，一年後需要euv了呢

3.除了euv，就沒有需要尊重國際法規的現製程需要的設備了嗎

最後

認識ASML的人，他們是歐洲商不是美商，不會禁的。只是半導體工藝不是只有設備就能做出來

不禁，最新的euv也能定。不過目前來說中芯不算大客戶，優先順序自然不高，交付要晚一些的，畢竟asml產能有限。

我認識不少asml的人，比起tsmc，intel中芯水平確實差一點，即使用一樣的機器情況下。

我不是光刻或者Fab行業人員，所以我肉眼看到的信息一直說是禁售的，原因大家很清楚，想想TSMC的好的工藝流片都是對某些廠商不開放的。

光刻是不是制約半導體發展呢？很大程度上是。大規模集成電路的設計離不開兩個東西，第一工具，第二就是工藝。集成度到了今天這個程度，沒有工具，該怎麼做？如果EDA公司在貿易戰中被拉入，禁止向中國公司提供服務，那麼現在巨頭的EDA License你就用不了了。會寫RTL，不能綜合，不能做DFT，不能做Physical Design，DRC、LVS也是無法完成。

工具很大程度上是配合工藝的，先有研發出來的工藝，再由工具支持該工藝。工藝的研究沒有積累一代一代下來是很難有突破的。光刻成為工藝中的關鍵技術，這個技術決定了你能夠做的最小尺寸。當然我不排除說有人可以發明出拋棄現有類似印刷術的生產方式，來個大逆轉。

和集成電路不同，軟體行業我覺得國內的發展很是迅猛，這是個服務行業，而且是眾服務行業，有些應用服務的人群很多，中國有這個市場。做好了就是一個聚沙成塔的過程，每個人共享一點點的關注度，方便了自己，成就了一個軟體行業的巨頭。久而久之你會離不開這種服務，覺得它是應該存在的。重點最後說，IC行業並不像軟體行業一樣容易複製，崛起，要靠很多實打實的積累。

不是完全禁售，只是禁售最新最新的幾代設備。瓦森納協議每過幾年都會更新禁售列表，比如2010年90nm以下的設備都是不允許銷售的，到2015年就改成65nm以下的了。

然後再說下瓦森納協議本身，瓦森納協議半身只是一堆成員國定期討論下什麼樣的東西是管制性的，需要限制銷售，然後規定各成員國出售敏感設備時要向其他成員國通報。中國雖然不是瓦森納的簽約國，但是中國自己的武器出口管制也是完全按照瓦森納協議執行的。

瓦森納協議不是個法律性的協議，其本身也更沒有說「不能出口xxx設備給中國」。瓦森納協議的具體執行是由各成員國立法機構立法決定的。比如某一個國家要決定禁運列表時，要先決定要對哪些國家禁運，然後才是要禁運哪些東西。決定禁運哪些東西的時候基本都是按照瓦森納協議執行的，或者以瓦森納協議作為重要參考，而對哪些國家禁運就是各搞各的了。

一般老說，被聯合國制裁的國家，基本也會在各國的禁運列表裡（比如，朝鮮）。而對中國來說，阻止中國進口先進光刻設備的原因是，90-1年美國和歐盟對中國執行對武器禁運（為什麼他們在這一年對中國執行武器禁運請自己腦補）。之前中國一直在遊說歐盟取消這個禁運，如果取消了，那買ASML大概也就沒有任何限制了，當然美國還是有可能插一杠子的。

總的說來，雖然法律上是禁運，但是估計還是有各種各樣的方法來繞開其限制的，中國其實已經從歐洲買了不少在管制名單上的東西。但不管怎樣，還是在某種程度上限制了中國晶元產業的發展。

曾在外資公司被培訓過瓦森納條約，所以知道禁運問題。對的，這個條約就是原因。絕大部分公司，尤其是母公司在小國的，根本沒那麼多意識形態觀念，有生意不做是傻瓜。可是畢竟這些歐洲小國是受美國和北約保護的。在條約上被列為禁止出口項的，你就不能出口到中俄等國，除非你不想做美國和歐洲市場了。不在禁止之列的，人家巴不得多賣點給你。

小小糾正一下一個事實。asml是前飛利浦半導體設備事業部，後來拆分成獨立公司了。（扯遠一點，半導體行業風險高、業績起伏大，飛利浦先後拆分出了設備部ASML和半導體產品部NXP。然而現在asml的規模已經遠遠超過荷蘭皇家飛利浦電子公司了。）

ASML中國區總裁金泳璇

問：針對國內市場、客戶，各方現在傳出許多聲音，聽說國內晶圓廠都預定不到EUV光刻機「有錢難買EUV」？

答：首先，我必須澄清這絕非事實。中國本地的晶圓廠與所有國際客戶，於ASML而言都是一視同仁的，只要是確認訂單，EUV要進口到中國完全沒有任何問題。

由於EUV零組件多達5萬多個部件，從客戶下單到正式交貨，交期約21個月，這個情況，對每個客戶都是完全一致的。

事實上，大陸客戶已進入7納米工藝製程技術研發階段，並且與ASML展開EUV的商談。如果最終訂單確認，最快預期2019年EUV會首次移入中國晶圓廠，我們對在中國客戶裝入中國第一台EUV光刻機，抱持樂觀的期待。同時認為一旦一家中國客戶採用，其他客戶也會快速跟進。

問：EUV似乎是持續推進摩爾定律、延續未來納米工藝往下延伸的關鍵，未來進一步規劃與ASML對摩爾定律的看法？

答：毫無疑問摩爾定律會繼續下去，但每一製程技術節點之間的時間會延長，技術與資本門檻變得更高。

浸潤式顯影技術走到三重曝光(triple-patterning)階段，成本已然超過EUV，生產交期更長、技術更為複雜，從量產的性價比角度，EUV在7納米以下技術節點已屬於最適方案。

目前EUV光源已經可達250watt，達到每小時量產125片12吋晶圓，下一階段5納米技術節點以下High-NA EUV已經在布局研發。

確實是禁售的。當然你也可以說不禁售，那就是優先台韓各大廠。排隊到中國大陸基本要兩年後吧，兩年對技術領域差不多一代了吧，你覺得這還不是限制么

不禁的，SMIC在whitelist上。但會有人定期來inspection。

SMIC工藝不如別人不是因為設備禁運。給它設備它也做不出14nm。設備只是必要條件之一。工藝研發需要時間，技術儲備，錢。

不禁，國內產線很多都用的Asml的設備，我估計題主問的是因為網上傳的中國要比主流產線落後兩代的說法。那個只是我們自己意淫罷了，首先國內最先進的中芯國際20nm良率還是不行，所以現在有7nm光刻機也沒用，國內半導體裝備目前在北方華創，中微半導體等企業的帶動下已經強大了很多，刻蝕，薄膜設備都已經穩定量產。但是光刻機估計國內自己搞不出來了的，世界上高端光刻機都被Asml一家壟斷了，上海微電子的光刻機能用在封裝，LED等領域。其次台積電，三星等公司都是Asml的股東，所以優先順序高，中芯國際，華力要買需要排隊。Asml一年的產量就那麼幾台，肯定有限提供給自己的股東兼大客戶。

ASML的光刻機對中國不禁售。

2014年的新聞中芯國際向ASML訂購4.5億歐元光刻設備

只是中國不能向ASML購買最先進的光刻設備，比如在2015年只能購買2010年以前生產的型號而不能買2015年新研發的設備，這是保持使中國2~3代的落後差距。

關於瓦森納協議，

我想落後2~3代的科技就算不上是敏感性高科技了吧。

在Asml 的兄弟原話，除了euv，其他不禁

還有，誰告訴你中芯落後那麼多的先進位程就是因為沒有光刻機。。。

保守估計，這一行的技術比你圖樣的想像要複雜一億倍左右

最新2-3代禁售舊的隨便買

我有大學同學博士畢業後就在那幹活

我之前的同事在浙大讀研究生，導師就是搞光刻技術的，他說中國的不行，出來找不到什麼大公司，於是來當碼農了

不管禁不禁售，在現有的條件下，光刻機不是制約中國集成電路工藝製造水平的主要原因吧。不過工藝製造這東西，技術的積累和人才的培養(和挖取)都十分重要。

不太了解，不過還是想回答一下。

高端的肯定禁售，中低端的肯定砸點錢能搞到。

但是中國的落後不是缺一個光刻機，是整個工業體系配套的落後。台積電和三星總能拿到高端光刻機吧，為什麼當年iphone幾來著，台積電cpu用的16nm工藝，三星用的14nm工藝。

光刻機不是萬能的

昨天聽一個老工程師朋友說的故事：

幾年前一個頂尖高校的半導體實驗室 DI water出了問題，找他去解決問題。

一去發現根本用錯管材，管內滋生真菌.....

有 ASML的不止台積電、三星、海力士，考不好怪筆有問題不太靠譜。

現階段拿到了EUV也沒法立刻在產品中用上。同意另一個答案的回答，題目做不出來，不能怪筆不好使。EUV目前還是探索階段，和傳統patterning的差別很大，從光刻膠到刻蝕，每一個小步都要投入大量精力去研究解決方案。除非目標7/5nm，否則意義不大。