the Kubelka–Munk function在紫外漫反射圖中如何應用?

the Kubelka–Munk function 在紫外漫反射圖中如何應用


紫外可見漫反射是什麼?

紫外可見漫反射光譜(UV-vis Diffuse Reflection Spectroscopy,下文簡稱DRS)是半導體材料中最重要的表徵手段之一,尤其是光學相關的方向。

在紫外分光光度計上安裝一個積分球,就可以測DRS了。測試過程中,照射在樣品上的光束波長連續變化,積分球收集漫反射的光線,匯聚到檢測器上,計算出樣品的反射率,從而推算出吸光度。

紫外漫反射能幹啥?

DRS可以獲取半導體一些重要的電子結構信息,比如,帶隙(bandgap)。

帶隙分為兩種,直接(direct)和間接(indirect),區別可以看下圖:

帶隙是半導體最重要的參數之一,而在很多應用領域中,由於太陽光譜或者人類的視覺相應波長範圍,紫外和可見光波段的帶隙很被看重。合適帶隙的半導體可以吸收或者放出特定波長的光,常見應用包括光伏、LED、OLED、防晒日化、光催化等……

怎麼用KM函數得到帶隙?

KM函數,即Kubelka-Munk function,源自這兩位老哥1931年在Zeit. Für Tekn. Physik發表的反射理論。

  • 該函數基本形式為: F(R)=frac{K}{S}=frac{(1-R_infty)^2}{2R_infty}

其中K為吸收係數,S為反射係數, R_infty 指處理樣品反射時將其近似為無限厚。一般採用硫酸鋇等 R_infty 值約為1的物質來作為壓片材料。

  • KM函數應用在半導體表面的反射現象,我們得到了一個方程:(alpha h 
u)^n=B(h
u-E_g)

其中h為普朗克常量, 
u 是光的頻率, B 是一個與材料有關的物理量, E_g 即帶隙能量值, alpha 為吸光度

  • n對於間接帶隙型半導體是1/2,對於直接帶隙型半導體是2

(alpha h 
u)^n 為縱坐標, h
u 為橫坐標作圖,對其中線性區段進行擬合,得到一個線性方程,它在x軸截距即是帶隙能量的大小。

舉個例子?

有一天,我合成了一鍋二氧化鈦納米片,乾燥磨碎之後,和硫酸鋇壓個樣,拿去測DRS了

  • 測得的反射度-波長圖如下,可以看到在紫外波段吸收簡直無敵:

  • 二氧化鈦為間接帶隙型,採取n=1/2,根據KM方程作圖:

於是得出了它的帶隙~撒花~

Zeit. Für Tekn. Physik, 1931, 12, 593

Nanoscale Research Letters 2012 7:1


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