pn結正偏時,自由電子是怎樣通過耗盡層的?
耗盡層p區的空穴已經被填滿了,晶體中原子之間是不是還有很大的空間供電子通過?
一句話回答:正偏的時候,耗盡層消失了,或者說只有非常薄的一層。
我們再複習一遍半導體的知識。
半導體裡面的載流子不是你想的那樣的,電子並不是完全自由的,空穴更不是。它們是從原子往相鄰的原子上轉移。一個4價的硅原子,上面有一個電子轉移到隔壁的原子去了,它自己就變成了一個帶正電的空穴,轉移出去的電子變成了帶負電的載流子。如果剛好又有一個電子跳到了空穴上,這兩個就會合併回電中性的4價硅原子。這兩種過程形成動態平衡,跟化學裡面的平衡反應差不多,這樣最後半導體中同一位置空穴和電子載流子的乘積是個固定值,對於純凈的硅來說兩者相等,那麼每種的數量都非常少。帶電子的原子,上面的電子可以有機會轉移到臨近的原子上,這樣就可以承載電流;同樣,空穴可以吸引相鄰原子上面沒有分裂出來的電子,讓相鄰原子分裂成空穴和電子,然後把電子吸引過來和自己的空穴中和,也就相當於空穴移動了一個位置,也可以承載電流。
經過摻雜之後,某些摻雜進去的原子有更強的吸電子的效應,電子載流子跳到這個原子上就出不去了,於是吸走了一部分電子讓它們不能再參與平衡反應,那麼平衡就被拉到了空穴多、電子少的方向,這就是p型半導體;反過來某些摻雜進去的原子有較強的給電子效應,它很容易分解出電子,而電子載流子很難跳到它上面重新回到電中性,平衡就變成電子多、空穴少的狀態,也就是n型半導體。這跟純水難導電、酸鹼性的水容易導電差不多的原理。沒有摻雜的時候,兩種載流子濃度都是本徵濃度,都很低,總的載流子濃度是本徵濃度的兩倍;摻雜之後,一種載流子濃度提升了一百倍,另一種下降到1/100,但是總的載流子濃度是本徵濃度的100.01倍,導電能力就大大提高了。注意並不是說p型半導體就帶正電、n型半導體就帶負電了。那些摻雜的原子吸走了電子,自己變成了負離子,電荷並沒有增減,只是這些負離子很穩定,不會參與導電;給電子的原子也是一樣。半導體整體還是電中性的。
再說p-n結的問題。將p型半導體和n型半導體融合到一起之後,由於熱力學第二定律的作用,載流子會自動從濃度高的位置向濃度低的位置轉移,簡單想成是載流子到處亂轉,但是因為p型這邊空穴多、n型那邊空穴少,所以總是從p型到n型移動的空穴比較多,而反過來移動的空穴比較少;n型的電子也是一樣。但是我們知道電子和空穴是帶電的,它從半導體裡面移動出去了,就會把電荷也帶過去,本來電中性的半導體就會變得帶點,p型半導體空穴移動出去、電子移動進來,所以帶負電;n型半導體空穴移動進來、電子移動出去,所以帶正電。這樣就產生了從n型指向p型半導體的內建電場,同時意味著n型半導體中電勢上升,p型半導體中電勢下降。這個電場才是阻礙載流子進一步移動的原因,而不是耗盡層。由於載流子無法再相對移動,中間過渡區域在兩種載流子中和的作用下,載流子濃度下降,成為耗盡層。載流子如果進入耗盡層,就會被消耗掉,於是耗盡層很難導電。
當p-n結反偏的時候,空穴會被拉向p型的方向,電子會被拉向n型的方向,但是它不能把耗盡層已經中和了的載流子再重新還原出來,也就沒法把電荷傳遞到另一側,所以在耗盡區變寬的同時,產生了一個類似於給電容充電的效果:耗盡區兩邊的載流子因為被拉離原本的位置產生的電場,抵消了外電場,形成了新的平衡,也就沒有辦法導電了。但是外電壓強到一定程度的時候,內建電場和外電場疊加之後足夠強,會強行從耗盡區的中性原子上拉出載流子,這就形成擊穿了。
當p-n結正偏的時候,外電場實際上是抵消了內建電場的阻礙載流子擴散的效果,於是載流子可以繼續擴散到原來的耗盡區,把耗盡區重新變成p型和n型,當外電場不能完全抵消內建電場的時候耗盡區仍然存在但慢慢變薄,直到最薄的時候,就是半導體導通(所以半導體有導通電壓),這時候載流子不斷向對面擴散,最後在p型和n型的交界處上不斷中和。雖然載流子中和掉了,但是因為從半導體兩端不斷有電流輸入和輸出電荷,也就不斷從半導體兩端重新製造出載流子,於是導電的過程可以持續下去。某些半導體p型和n型交接處載流子中和的過程會釋放出比較大的能量,能量以光子的形式發射出來,就形成發光二極體。提問者把幾個層面的概念混在一起講了。我們需要把概念分清,分別解釋。
1. 在宏觀層面,也就是肖克利方程組(泊松方程、電子和空穴連續性方程)的層面,我們不考慮單個的自由電子,只考慮載流子(電子、空穴)密度。「自由電子」是和「束縛電子」相對的概念,不應該用在這裡。在這個層面,我們把問題改寫成PN結正偏時,載流子是怎樣通過耗盡層的?耗盡層的載流子密度非常低,為什麼還能有電流?
已經有無數本半導體器件物理的教科書試圖解釋過這個問題了。教科書的說法,這裡不多重複。提問者的疑惑,可能來自於教科書中對二極體正偏電流的推導。很多教材中,直接引用下面公式,即P側的耗盡層邊界處電子密度 與正偏電壓 V 之間的關係:
................... (1)由(1)可以計算 P 側的電子擴散電流 。然後,教材會計算 N 側的空穴擴散電流 ,並宣稱二極體總電流。 ................... (2)耗盡區 N 側邊界的電子濃度約等於 N 側的摻雜濃度,P 側邊界的濃度為上面的。耗盡層中,電子濃度是連續變化的。說耗盡區里的載流子濃度低,是相對的。例如,下圖是TCAD模擬得到的二極體內電勢和載流子濃度的分布(左側N型,右側P型,耗盡層在-0.5到-0.2微米之間)。
回到耗盡區內載流子的運動問題。在肖克利方程的層面,載流子運動的方式是漂移和擴散。在PN結二極體中,耗盡區中的漂移和擴散的方向相反。在零偏壓時,耗盡區內漂移和擴散抵消,電流為零。在正偏時,擴散大於漂移,有凈電流。那麼,為什麼教科書的推導從耗盡層邊界開始,而不討論耗盡層內部的電流呢?這是因為耗盡層里載流子濃度和電勢都劇烈變化;漂移和擴散電流都很大,但幾乎互相抵消,而我們關心兩者的差值。這些因素使得直接推導耗盡層內電流的解析表達式非常困難。
反過來,耗盡層外的中性區里,物理過程就簡單多了。具體來說,P中性區里,電場幾乎為零,少子(電子)的漂移電流可以忽略不計。肖克利在其1949年的經典論文中,通過一個物理上很直觀的近似,寫出了上面的(1) 式。由此,中性區少子濃度的分布可以輕易地解出,進而得到二極體正偏電流的簡單解析表達式。
題外話:個人認為,肖克利在此處的貢獻,在於提出(1)式的洞察力,而不是後半段的公式推導。肖克利在二極體和三極體理論的發展中,有幾處極具洞察力的天才貢獻。雖然第一個晶體管實驗成功時他並不在場,但肖克利在晶體管的發明中的貢獻,是毋庸置疑的。
小結一下:耗盡區里的載流子既有漂移也有擴散。正偏時,兩者不等形成凈電流。教科書選擇從耗盡層邊界開始推導結電流公式,是因為耗盡區內的情況太複雜,不便於推導。TCAD模擬直接解肖克利微分方程組,不需要做(1)式的近似,可以直接解算得到耗盡區內的情況。
思考:
a. 肖克利是如何直觀地解釋(1)式的?
b. (2)式中,把兩個中性區的少子擴散電流相加得到總電流。上面我們說可以忽略少子漂移電流。那麼多子的漂移和擴散電流呢?是被我們遺漏了么?2. 「耗盡層p區的空穴已經被填滿了」這句話有誤。提問者可能想表達的意思是,N區(和耗盡區)的價帶的能級被電子填滿了,而教科書說「填滿的價帶是不能導電的」,N區(和耗盡區)怎麼會有空穴電流呢?
很簡單,P區有很多空穴,也就是價帶有很多空位。耗盡區的價電子流到P區填補空位,於是在耗盡區的價帶騰出一些空位來。然後N區的價電子去填補耗盡區的空位,在N區的價帶騰出一些空位來。再然後,N區的導帶電子通過SRH複合等過程,落到價帶填補空位。這個過程形成了從P到N的空穴電流。
3. 在自由電子近似層面,回答「晶體中原子之間是不是還有很大的空間供電子通過?」[TODO]你可以這麼理解,當你跟女生宿舍只隔了一道帘子的時候,你就很容易被吸引過去了。
當時學習這部分的時候總結了一下,就是正偏導電是載流子擴散,反偏導電是載流子漂移
樓上幾位的答案非常詳細
但並沒有直接回答題主的問題:
「耗盡層空穴...被填滿了,自由電子...怎麼通過?」
固體物理上有一個論斷非常有誤導性
「滿帶不導電」
通常滿帶能級遠位於費米能級之下
滿帶電子躍遷產生空穴的勢壘很高
基本都被束縛在晶格上不參與導電
但如果在滿帶附近引入一個較低能級
使滿帶電子能以較低能量躍遷 產生空穴
那麼這個能帶就不再是滿帶 能夠導電
也就是說
孤立的滿帶不導電
系統內的滿帶可以導電
回到題主的問題
耗盡層內的價帶被電子填滿 是滿帶
耗盡層邊界處中性區內價帶內有大量空穴
耗盡層價帶內的電子躍遷到中性區價帶空穴上的勢壘
既兩能態高度之差
遠小於半導體帶寬
耗盡層滿帶也是可以導電的
擴散電流
推薦閱讀:
※半導體行業不再參照摩爾定律之後將如何發展?
※歐洲微電子中心imec的實力和領域中的聲望如何?和MIT、Intel相比呢?在那裡讀博士前怎麼樣?途?
※微電子器件和工藝碩博的筒子們,大多都是轉行的節奏嗎?
※誰能和我通俗解釋下集成電路封裝技術的TSV技術;有沒有什麼資料可以學習下的?
※建築材料本科畢業怎麼轉行進入做薄膜、半導體之類新材料公司?