有沒有替代極紫外光刻技術方法？

就目前來看解決極紫外光源光源功率是個大問題，157nm也被業界認為是不可行的！那麼有什麼可以替代的光刻技術可以敲開7nm節點的大門！

這是兩個月前的新聞ASML Claims Major EUV Milestone | EE Times，ASML在EUV光刻取得重大突破，解決了EUV最大的問題：光源功率不足的問題。最新的EUV光源達到了250W的功率，這個功率可以支持每小時125片晶圓的產量。估計不久之後就可以用在光刻機上了。

這個突破可以說是相當的不容易。僅僅在5年前，EUV光源的功率只有25W，相當於現在的十分之一。ASML為EUV奮鬥了三十年，本來計劃在45納米用上的結果一拖再拖。為了加快進度ASML收購了生產光源的Cymer，並接受了Intel，Samsung，TSMC的大筆注資，據估計整個半導體業界在EUV上的投入不下兩百個億。而現在EUV終於可以說是「修成正果」了。說真的看到這個EUV的奮鬥史讓我感動得想哭。